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中国光刻机

2025
09-02

高盛:中国光刻机只能造65nm!落后ASML 20年 NEW

zhiyongz 硬件 围观7次 0 条评论
高盛:中国光刻机只能造65nm!落后ASML 20年快科技9月2日消息,近些年,我国在半导体芯片领域不断努力追赶,但差距依旧比较大,也是被卡脖子最严重的科技产业。根据著名投资银行高盛最新发布的报告,他们认为中国的国产光刻机只能生产65nm工艺的芯片,相比国际巨头ASML落后足足有大约20年!高盛称,虽然中芯国际已经可以生产7nm工艺芯片,但极有可能还是利用了ASML比较老旧的DUV深紫外光刻机,因为中国还不具备制造这种设备的能力,更别提ASML已经发展了两代EUV极紫外光刻机。目前,ASML最新的High-NA EUV光刻机已... Read More >
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