俄罗斯光刻机

2025
09-29

俄罗斯光刻机路线图曝光：2036年底前完成EUV光刻机研发！ NEW

9月28日消息，俄罗斯计算机与数据科学博士Dmitrii Kuznetsov近日通过X平台曝光了俄罗斯最新的光刻机研发路线图，显示俄罗斯最快将在2026年完成65-40nm分辨率的光刻机的研发，2032年前完成28nm分辨率的光刻机的研发，并最终在2036年底前完成可以生产10nm以下先进制程的全新极紫外线光（EUV）光刻机的研发。俄罗斯光刻机路线图曝光：2036年底前完成EUV光刻机研发！其实，早在2024年12月，俄罗斯科学院微观结构物理研究所就已经公布由其主导研发的EU... Read More >

2024
12-16

欧美封堵无效！俄罗斯光刻机亮相：可生产350nm芯片 7nm也会拿下 NEW

快科技12月16日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯最大的芯片制造商之一Angstrom-T因无力偿还990万美元（约合人民币7200万元）债务而宣布破产。Angstrem-T工厂于2007年开始兴建，位于有俄罗斯硅谷之称的泽列诺格勒，该工厂由前通信部长Leonid Reiman管理。报道中提到，Angstrem-T还与M+W Germany GmbH签订合约金额为1.5亿欧元，其任务是按计划在2008年底前建造和启动Angstrem-T工厂，用于生产130nm~90nm芯片。由... Read More >

2024
05-25

欧美封堵无效！俄罗斯光刻机亮相：可生产350nm芯片 7nm也会拿下 NEW

快科技5月25日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克指出，该设备可确保生产350nm的芯片。在俄罗斯看来，尽管350nm的芯片技术相较之下显得落后，但它在汽车、能源和电信等诸多行业中仍有着应用价值。 这意味着，俄罗斯在自主发展半导体技术的道路上取得了突破，有望减少对外部技术的依赖，提升国内产业的自主性和竞争力。之前俄罗斯已经表示，计划到2026年实现65nm的芯片节点工艺，2027年实现28nm本土芯片... Read More >