2022
11-04
11-04
EUV光刻太贵了：替代技术正加快速度转正 NEW
随着芯片法案宣布将补贴美国半导体研发和制造500多亿美元，人们对芯片制造技术的基本现状产生了极大的兴趣。目前，三星5纳米工艺(指定为5LPE)就是向全球市场提供先进芯片制造技术的其中之一，这代表了三星finFET技术取得了重大突破，未来势必会更进一步，以更低的成本在芯片上放置更多的晶体管，同时提供更高的性能。在芯片上刻出超细特征所需的先进光刻技术是实现这些进步的主要推动者。半导体光刻技术的起源与发展光刻是半导体工业的核心技术。自1960...
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