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首页 > X光刻机

X光刻机

2025
10-30

比EUV更强 美国公司研发X光刻机:目标取代台积电和ASML NEW

zhiyongz 科学 围观279次 0 条评论
比EUV更强 美国公司研发X光刻机:目标取代台积电和ASML快科技10月30日消息,先进芯片工艺越来越离不开EUV光刻机,全球仅有荷兰ASML公司能生产,现在美国一家初创公司要用新技术挑战ASML的地位了。这家公司名为Substrate,他们的终极目标是在美国建立晶圆代工业务,挑战台积电的地位,但是现在他们首先做的是研发新型的光刻机,挑战ASML的地位。因为当前的先进工艺使用EUV光刻机成本太高,现在的NA 0.33的EUV光刻机售价都要2亿美元左右,NA 0.55的新一代EUV光刻机要4亿美元,一座先进工艺的晶圆厂投资高达150亿美... Read More >
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